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荷兰SPARKNANO薄膜沉积研发机床LabLine 系列赫尔纳供应
荷兰SPARKNANO薄膜沉积研发机床LabLine 系列赫尔纳供应,由赫尔纳德国总部直接采购,近30年进口工业品经验,原装产品,支持选型,为您提供一对一好的解决方案:货期稳定,快速报价,价格优,设有8大办事处提供相关售后服务。
公司简介:
SparkNano 是一家高科技产品公司,致力于空间原子层沉积工具 (Spatial ALD) 的设计和商业化,重新定义了工业规模的纳米制造。
SparkNano 的 Spatial ALD 技术使其客户能够沉积薄的功能层,不仅提高性能并降低燃料电池、电池和太阳能电池的制造成本,而且还解决了与有效利用稀缺材料相关的供应链挑战
荷兰SPARKNANO薄膜沉积研发体制LabLine 系列产品介绍:
SparkNano 的 LabLine 系列提供行业的空间原子层沉积 (S-ALD) 系统,将薄膜质量与快的沉积速度的灵活性相结合。这些先进的系统旨在支持广泛的 S-ALD 工艺并适应各种基板类型,使其成为研发、工艺开发、产品开发甚至试产线生产的理想解决方案。
此外,LabLine 系统具有可扩展性,弥合了实验室研究和全面生产之间的差距,确保顺利无缝地过渡到商业生产。LabLine 系统由几个关键组件组成,每个组件都旨在为各种 S-ALD 应用提供高性能和灵活性。这些组件可以根据特定的工艺要求进行定制或升级,确保系统适应您不断变化的需求。
荷兰SPARKNANO薄膜沉积研发体制LabLine 系列优势特点:
Ø 高速处理:在不到 10 分钟的时间内在硅晶片上实现高达 50 nm 的 Al₂O₃沉积,大大缩短了加工时间。
Ø 大型基板能力:支持大 420 mm x 300 mm 的基板,可提供定制尺寸,为各种应用提供出色的可扩展性和灵活性。
Ø 等离子体增强的灵活性:能够在聚合物等温度敏感材料上沉积,扩大了可加工的材料范围。
Ø 前驱体效率和成本降低:大的前驱体效率,加上回收未反应的前驱体的能力,显著减少了材料浪费和运营成本。
荷兰SPARKNANO薄膜沉积研发体制LabLine 系列主要规格:
Ø 基材类型:平面和多孔基板,包括晶圆、玻璃、金属和聚合物箔
Ø 沉积温度:热 S-ALD 50°C – 250°C/等离子体增强 S-ALD 50°C – 200°C
Ø 前驱体和共反应物:前驱体:标准设置,多具有四个前驱体连接。共反应物:H₂O(标准)、等离子体(可选 O₃、H₂、O₂)(可根据要求提供其他前驱体和共反应物。
Ø 基板加载:手动,通过两个前厅(一个小,一个大)
Ø 免费样品区:大 420 毫米 x 300 毫米
Ø 系统尺寸:4.0 米(宽)x 3.6 米(深)x 2.1 米(高)
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